IT之家7 月 9 日音讯近来，国内半导体设备厂商至纯科技在互动渠道标明，现在至纯科技 28nm 节点悉数湿法工艺设备已认证结束。

  IT之家了解到，芯片制作分为逻辑芯片规划、芯片代工、封装测验三大环节。其间芯片代工包括晶圆制作、曝光、刻蚀、清洗等流程。湿法整理洗刷设备归于半导体供应链中的清洗环节，清洗是依据不同芯片制程工艺的需求，来对硅晶圆标明上进行无损伤清洗，对芯片制作的完好过程中残留的颗粒、曝光、刻蚀制程构成的天然氧化层以及金属污染、有机物、献身层、抛光残留物等杂质进行整理。清洗环节占芯片制作工艺过程的 30% 以上，在芯片制作工艺过程中，清洗环节所占的份额是最大的。

  至纯科技标明，国内现在有三家在湿法工艺设备端供给中高阶湿法制程设备，分别是至纯科技、北方华创和盛美，国内厂商的商场占比在逐年上升中。

  材料显现，至纯科技成立于 2000 年，主营业务为高纯工艺体系的研制、出产和出售；半导体湿法整理洗刷设备研制、出产和出售；光传感使用及相关光学元器件的研制、出产和出售。财报显现，至纯科技 2020 年湿法设备出货量超越 30 台，新增订单 5.3 亿元，增加 211.8%。

  除了 28nm 工艺节点之外，上海证券报的报导中还指出，至纯科技 14nm 及 7nm 工艺估计 2022 年可供客户验证，客户包括中芯世界、华虹集团、长鑫存储、华为、台湾力晶等职业领先者。

  值得一提的是，上个月我国电子信息工业开展研究院电子信息研究所所长温晓君在承受媒体采访时标明：“我国将在 2022 年末完结有关 14 纳米制程设备的打破”，至纯科技将在 2022 年交给给华为、中芯世界认证的 14 纳米及 7 纳米整理洗刷设备，某些特定的程度上也进步这则音讯的可靠性。

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